| REFERANS | DEBTI52559/24-1 |
|---|---|
| TÜR | AB BTB |
| GTİP | 8103.99.90 |
| KISA TANIM | Tantal saçtırma hedefi (sputter hedef). |
| TANIM | "SPUTTER HEDEF" - TANTALUM'DAN (3N5) YAPILMIŞ BIR KAZAN VEYA KUP ŞEKLINDEKI HEDEFTEN, ÇAPI 300 MM - KENARLARINDA EŞIT OLMAYAN DAĞITILMIŞ DELIKLER OLAN, TABAN METALINDEN YAPILMIŞ YUVARLAK, BASAMAKLI VE PAHLI BIR HALKAYA YERLEŞTIRILMIŞ - HEDEFIN AĞIRLIĞI, HALKA AYARI AĞIRLIĞINDAN DAHA YÜKSEKTIR - YARI ILETKEN BILEŞENLERIN ÜRETIMINDE, TANTALUM KUPASINA YÜKSEK ENERJILI IYONLAR BOMBALANDIRILDIKTAN SONRA TANTALUM ATOMLARININ ÇÖZÜLMESIYLE KATILARI KAPLAMAK IÇIN (= SPUTTERING) GAZ FAZINDAKI ILGILI KATILARIN ÜZERINE YIKAMA. (BAŞVURU SAHIBI BILGILERI) RESIMLER IÇIN EKLERE BAKINIZ. BU TÜR ÜRÜNLER, KOMBINE NOMENKLATÜRÜN 8103 9990 ALT POZISYONUNDA "8103 2000 ILA 8103 9910 ALT POZISYONLARINDA BELIRTILENLER DIŞINDAKI TANTALDAN MAMUL EŞYALAR" OLARAK SINIFLANDIRILIR. 8486. BAŞLIKTA YARI ILETKEN BILEŞENLERININ KAPLANMASI IÇIN BIR SPUTTERING SISTEMININ PARÇASI OLARAK SPUTTERING HEDEFININ SINIFLANDIRILMASI UYGULANAMAZ, ÇÜNKÜ HEDEFLER ANA ÜRÜN SÖKÜLDÜĞÜNDE ORTAYA ÇIKAN MAKINENIN BÜTÜNSEL BILEŞENLERI DEĞILDIR. BUNUN YERINE, GEREKSINIMLERE BAĞLI OLARAK SISTEMDE FARKLI MALZEME ÖZELLIKLERINE SAHIP HEDEFLER KULLANILMAKTADIR. SISTEMIN IŞLEVSELLIĞI HEDEFLER OLMADAN BILE IŞLEVSELDIR. |
| BAŞLANGIÇ TARİHİ | 10.03.2025 |
| BİTİŞ TARİHİ | 9.03.2028 |
| YABANCI TANIM | "SPUTTERTARGET" - AUS EINEM KESSEL- BZW. BECHERFÖRMIGEN TARGET AUS TANTAL (3N5), DURCHMESSER 300 MM - EINGEFASST IN EINEM RUNDEN, ABGESTUFTEN UND ABGESCHRÄGTEN RING AUS UNEDLEM METALL, AM RAND MIT UNGLEICHMÄßIG VERTEILTEN LOCHUNGEN VERSEHEN - GEWICHT DES TARGETS HÖHER ALS DAS GEWICHT DER RINGEINFASSUNG - ZUM BESCHICHTEN VON FESTKÖRPERN DURCH HERAUSLÖSEN VON TANTALATOMEN NACH BESCHUSS DES TANTALBECHERS MIT ENERGIEREICHEN IONEN UND ABSCHEIDEN AUF DEN JEWEILIGEN FESTKÖRPERN IN EINER GASPHASE (= SPUTTERN) BEI DER HERSTELLUNG VON HALBLEITERBAUELEMENTEN (ANTRAGSTELLERANGABEN) ABBILDUNGEN SIEHE ANLAGEN. DERARTIGE ERZEUGNISSE GEHÖREN ALS "ANDERE ALS IN DEN UNTERPOSITIONEN 8103 2000 BIS 8103 9910 GENANNTE WAREN AUS TANTAL" ZUM UNTERPOSITION 8103 9990 DER KOMBINIERTEN NOMENKLATUR. EINE EINREIHUNG DES SPUTTERTARGETS ALS TEIL EINER SPUTTER-ANLAGE ZUR BESCHICHTUNG VON HALBLEITERBAUELEMENTEN DER POSITION 8486 KOMMT NICHT IN BETRACHT, DA ES SICH BEI DEN TARGETS NICHT UM INTEGRALE BESTANDTEILE DER MASCHINE HANDELT, DIE BEIM ZERLEGEN DER HAUPTWARE ANFALLEN. VIELMEHR WERDEN JE NACH BEDARF TARGETS UNTERSCHIEDLICHER STOFFLICHER BESCHAFFENHEIT IN DER ANLAGE VERWENDET. DIE FUNKTIONSTÜCHTIGKEIT DER ANLAGE IST AUCH OHNE TARGETS GRUNDSÄTZLICH GEGEBEN. |
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