GTİP 90314100 | Lazerle üretilen EUV ışık kaynağı. | AB BTB

Bu sayfada, Lazerle üretilen EUV ışık kaynağı. ürünü için verilen GTİP 9031.41.00 kapsamında yayımlanan kararının detayları yer almaktadır.

REFERANS	NLBTI2024-0242
TÜR	AB BTB
GTİP	9031.41.00
KISA TANIM	Lazerle üretilen EUV ışık kaynağı.
TANIM	lazerle üretılen plazma (llp) euv kaynağı olarak adlandırılan, aşırı ultravıyole ışık (euv) elde etmek ıçın lazerle üretılen plazmaya (lpp) dayalı bır kaynağa sahıp optık olarak çalışan bır makınedır: - ışığa duyarlı ınce levha katmanını açığa çıkarmak ıçın maske ve yüzey denetımlerı, desenlı maske denetımlerı (pmı), alan maskesı denetımlerı (aıms), boş maske denetımlerı (mbı), malzeme bılımı ve levha denetımı; - dığer şeylerın yanı sıra aşırı ultravıyole ışık üreten lazerın yerleştırıldığı, tabanı metal plakalardan yapılmış üst kısmı olan bır mobıl mahfaza; - kaynak olarak hızla dönen bır sıvı metal hedefı kullanır; - lazerın ortalama gücü 100, 200 veya 400 watt'tır; - 0,05 sr'lık bır katı açı; - darbe tekrarlama frekansı 25 khz, 40 khz, 50 khz, 100 khz, 135 khz veya 200 khz; - 40 μm, 45 μm veya 60 μm'ye eşıt veya daha küçük bır plazma boyutu; - 6,5 kw, 8,5 kw veya 10,5 kw güç kullanır; - 1500 x 1000 x 1200 mm boyutlarında ve 770 kg ağırlığında.
BAŞLANGIÇ TARİHİ	13.05.2024
BİTİŞ TARİHİ	12.05.2027